摩尔定律终结之日一步步逼近

今年四月，两大芯片制造商台积电和三星先后宣布了 5 纳米制造工艺。

台积电称它的 5 纳米制程提供了 15% 的性能提升或 30% 的功耗改进，三星称它的新工艺提供了 10% 的性能提升或 20% 的功耗改进。

分析师表示这些数据与预期的相符合。这与十年前的 50% 提升不可同日而语，但从芯片工厂的投资判断，客户仍然认为这是值得的。 5 纳米工艺将使用极紫外光刻技术，能在硅片上产生极端精细的图案。
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光刻机非常昂贵，一台价值就超过一亿美元。极紫外光刻将是未来工艺制程的核心。在 5 纳米之后将是 3 纳米，但 5 和 0 之间的数字不多了，摩尔定律终结之日正一步步逼近 (https://spectrum.ieee.org/semico ... e-end-of-moores-law)。